https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/1709| Title: | Новый метод управления профилем боковых стенок фоторезистов |
| Other Titles: | An advanced sidewalls profile control method for thick photoresist |
| Authors: | Агейченко, А. С. Матюшков, В. Е. |
| Keywords: | доклады БГУИР;фотолитография;фоторезист;проекционный объектив;апертурная диафрагма |
| Issue Date: | 2011 |
| Publisher: | БГУИР |
| Citation: | Агейченко, А. С. Новый метод управления профилем боковых стенок фоторезистов / А. С. Агейченко, В. Е. Матюшков // Доклады БГУИР. - 2011. - № 1 (55). - С. 49 - 54. |
| Abstract: | Рассмотрены способы управления профилем боковых стенок проявленных фоторезистов повышенной толщины, используемых в технологии передовой упаковки микросхем методом бампинга перевернутого чипа и МЭМС. |
| URI: | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/1709 |
| Appears in Collections: | №1 (55) |
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| Ageychenko_Noviy.PDF | 620.24 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.