| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Свадковский, И. В. | - |
| dc.date.accessioned | 2018-04-25T11:49:06Z | - |
| dc.date.available | 2018-04-25T11:49:06Z | - |
| dc.date.issued | 2007 | - |
| dc.identifier.citation | Свадковский, И. В. Направления развития магнетронных распылительных систем / И. В. Свадковский // Доклады БГУИР. - 2007. - № 2 (18). - С. 112 - 121. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/31198 | - |
| dc.description.abstract | Рассмотрены вопросы функционирования магнетронных распылительных систем
постоянного тока, определены перспективные направления развития метода, включающие
понижение рабочего давления, разработку устройств несбалансированного типа и
многокатодных распылительных систем. Освещены проблемы формирования
компонентных пленок с использованием химически активной плазмы и перспективные
методы технологической реализации реактивных процессов нанесения. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | доклады БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | магнетрон низкого давления | ru_RU |
| dc.subject | несбалансированный магнетрон | ru_RU |
| dc.subject | реактивное распыление | ru_RU |
| dc.title | Направления развития магнетронных распылительных систем | ru_RU |
| dc.title.alternative | Directions of magnetron sputtering systems developments | ru_RU |
| dc.type | Статья | ru_RU |
| local.description.annotation | The aspects of functioning direct current magnetron sputtering systems have been
investigated. Perspective directions of developing magnetron sputtering methods, including low-
pressure sputtering, unbalanced magnetron sputtering and many cathodes sputtering have been
defined. Also it have been investigated problems of components coating deposition using chemically
active plasma and promising technologically methods reactive magnetron sputtering. | - |
| Appears in Collections: | №2 (18)
|
