DC Field | Value | Language |
dc.contributor.author | Долгий, А. Л. | - |
dc.contributor.author | Клышко, А. А. | - |
dc.contributor.author | Бондаренко, В. П. | - |
dc.date.accessioned | 2018-05-23T08:37:20Z | - |
dc.date.available | 2018-05-23T08:37:20Z | - |
dc.date.issued | 2009 | - |
dc.identifier.citation | Долгий, А. Л. Электрохимическое осаждение никеля на макро- и мезопористый кремний / А. Л. Долгий, А. А. Клышко, В. П. Бондаренко // Доклады БГУИР. - 2009. - № 1 (39). - С. 65 - 70. | ru_RU |
dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/31597 | - |
dc.description.abstract | Методом электрохимического анодирования кремниевых подложек в растворе фтористоводородной кислоты получены слои макро- и мезопористого кремния. Электрохимическим
методом на пористый кремний были осаждены слои никеля. Методом сканирующей электронной микроскопии исследована структура полученных образцов. Исследована кинетика
роста слоев никеля на мезопористом кремнии различной пористости. | ru_RU |
dc.language.iso | ru | ru_RU |
dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
dc.subject | доклады БГУИР | ru_RU |
dc.subject | электрохимическое анодирование | ru_RU |
dc.subject | пористый кремний | ru_RU |
dc.subject | сканирующая электронная микроскопия | ru_RU |
dc.subject | электрохимическое осаждение | ru_RU |
dc.subject | никель | ru_RU |
dc.title | Электрохимическое осаждение никеля на макро- и мезопористый кремний | ru_RU |
dc.title.alternative | Electrochemical deposition of nickel on macro- and mesoporous silicon | ru_RU |
dc.type | Статья | ru_RU |
local.description.annotation | Layers of macro- and mesoporous silicon have been obtained by electrochemical anodization
of silicon substrates in HF solution. Layers of nickel have been electrochemically deposited on porous
silicon. Structure of samples has been examined with help of scanning electron microscopy. Kinetics
of growth of nickel layers on mesoporous silicon with difference of porosity values has been investigated. | - |
Appears in Collections: | №1 (39)
|