Please use this identifier to cite or link to this item:
https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/31765
| Title: | Пленки нитрида кремния с низкими механическими напряжениями для микроэлектромеханических систем |
| Other Titles: | Silicon nitride films with low mechanical stresses for microelectromechanical systems applications |
| Authors: | Ковальчук, Н. С. |
| Keywords: | доклады БГУИР;микроэлектромеханические системы;механические напряжения;диэлектрические пленки нитрида кремния;дихлорсилан;аммиак |
| Issue Date: | 2008 |
| Publisher: | БГУИР |
| Citation: | Ковальчук, Н. С. Пленки нитрида кремния с низкими механическими напряжениями для микроэлектромеханических систем / Н. С. Ковальчук // Доклады БГУИР. - 2008. - № 4 (34). - С. 60 - 65. |
| Abstract: | Рассмотрены особенности технологии, позволяющей получать пленки нитрида кремния,
имеющие низкие значения остаточных механических напряжений (170–200 МПа) с целью
их применения в качестве мембран микроэлектромеханических систем. Получены экспериментальные зависимости остаточных механических напряжений пленок нитрида кремния от
их толщины и соотношения используемых в процессе осаждения газов — дихлорсилана и
аммиака. |
| URI: | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/31765 |
| Appears in Collections: | №4 (34)
|
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.
