DC Field | Value | Language |
dc.contributor.author | Соловей, Д. В. | - |
dc.contributor.author | Мозалев, А. М. | - |
dc.contributor.author | Горох, Г. Г. | - |
dc.date.accessioned | 2019-04-02T08:18:42Z | - |
dc.date.available | 2019-04-02T08:18:42Z | - |
dc.date.issued | 2008 | - |
dc.identifier.citation | Соловей, Д. В. Формирование высокоупорядоченных матриц анодного оксида алюминия заданной толщины и морфологии / Д. В. Соловей, А. М. Мозалев, Г. Г. Горох // Доклады БГУИР. - 2008. - № 6 (36). - С. 65 - 72. | ru_RU |
dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/34898 | - |
dc.description.abstract | Разработан и исследован трехстадийный электрохимический метод формирования высокоупорядоченных матриц анодного оксида алюминия (АОА) заданной толщины и поверхностной морфологии на тонких пленках алюминия. Преимущества метода продемонстрированы на примере формирования низкопрофильных матриц АОА толщиной 850 нм в щавелевокислом электролите. Электронно-микроскопические исследования показали, что созданные матрицы представляют собой регулярный близкий к идеальному массив вертикально ориентированных пор диаметром 70 нм. Предложен механизм упорядочения ячеисто-пористой структуры АОА в процессе ее формирования. Изготовленные матрицы предназначены для создания упорядоченных массивов низкоразмерных структур. | ru_RU |
dc.language.iso | ru | ru_RU |
dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
dc.subject | доклады БГУИР | ru_RU |
dc.subject | анодный оксид алюминия | ru_RU |
dc.subject | упорядоченные диэлектрические матрицы | ru_RU |
dc.subject | наноструктуры | ru_RU |
dc.subject | электрохимические процессы | ru_RU |
dc.title | Формирование высокоупорядоченных матриц анодного оксида алюминия заданной толщины и морфологии | ru_RU |
dc.title.alternative | Formation of high ordered matrixes of anodic alumina with necessary thickness and morphology | ru_RU |
dc.type | Статья | ru_RU |
local.description.annotation | An original, three-step electrochemical method has been developed for ordering the nanoporous structure of anodic films grown on sputter-deposited aluminium layers of various thicknesses and
grain morphologies. The advantageous of the method have been demonstrated for the case of a
850-nm anodic film grown on a sputtered aluminium layer in oxalic acid electrolyte. Scanning electron
microscopy has shown that the film is composed of a nearly ideal array of about 70-nm pores extended
vertically right from the film top to the film/substrate interface, which is impossible to achieve by
normal anodizing aluminium films. A mechanism explaining the growth of the ordered anodic films
has been proposed. | - |
Appears in Collections: | №6 (36)
|