| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Емельянов, В. В. | - |
| dc.contributor.author | Бордусов, С. В. | - |
| dc.date.accessioned | 2019-11-20T12:00:37Z | - |
| dc.date.available | 2019-11-20T12:00:37Z | - |
| dc.date.issued | 2019 | - |
| dc.identifier.citation | Емельянов, В. В. Селективное плазмохимическое травление нитрида кремния к диоксиду кремния / Емельянов В. В., Бордусов С. В. // Материалы, оборудование и ресурсосберегающие технологии: материалы международной научно-технической конференции, Могилев, 25-26 апреля 2019 г. / Белорусско-Российский университет; редкол. : М. Е. Лустенков [и др.]. – Могилев, 2019. – С. 126 – 127. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/37416 | - |
| dc.description.abstract | В настоящее время с развитием нанотехнологий плазмохимическое
травление остается практически единственным инструментом для переноса рисунка интегральной схемы в маскирующем слое в материал подложки благодаря тому, что точность переноса рисунка соизмерима с размером ионов травящих газов. Однако требования к плазменной технологии: допустимые дефекты, селективность (избирательность к материалу), управление шириной линии, однородность травления – становятся все более жесткими и, как следствие, более сложными в реализации. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | Белорусско-Российский университет | ru_RU |
| dc.subject | публикации ученых | ru_RU |
| dc.subject | плазмохимическое травление | ru_RU |
| dc.subject | нитрид кремния | ru_RU |
| dc.subject | диоксид кремния | ru_RU |
| dc.subject | селективность | ru_RU |
| dc.title | Селективное плазмохимическое травление нитрида кремния к диоксиду кремния | ru_RU |
| dc.type | Статья | ru_RU |
| Appears in Collections: | Публикации в изданиях Республики Беларусь
|
