| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Тихон, О. И. | - |
| dc.date.accessioned | 2020-01-08T12:08:57Z | - |
| dc.date.available | 2020-01-08T12:08:57Z | - |
| dc.date.issued | 2019 | - |
| dc.identifier.citation | Тихон, О. И. Исследовательский стенд для фотохимически стимулированного удаления фоторезиста / Тихон О. И. // Электронные системы и технологии : 55-я юбилейная конференция аспирантов, магистрантов и студентов, Минск, 22-26 апреля 2019 г. : сборник тезисов докладов / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники. – Минск : БГУИР, 2019. – С. 377-378. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/38063 | - |
| dc.description.abstract | Обработка полупроводниковых материалов комбинацией ультрафиолетового излучения и озона считается альтернативой
широко применяемым методам сухой очистки и обработке в жидких технологических средах. При рассмотрении возможности
применения данного метода в составе технологического маршрута изготовления ИС требуется изучение условий и
особенностей его реализации. С целью проведения экспериментов был разработан исследовательский стенд для изучения
параметров фотохимически усиленных процессов очистки полупроводниковых подложек и удаления фоторезистивных плёнок
в условиях атмосферного давления. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | материалы конференций | ru_RU |
| dc.subject | исследовательский стенд | ru_RU |
| dc.subject | очистка полупроводниковых подложек | ru_RU |
| dc.title | Исследовательский стенд для фотохимически стимулированного удаления фоторезиста | ru_RU |
| dc.type | Статья | ru_RU |
| Appears in Collections: | Электронные системы и технологии : материалы 55-й юбилейной конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2019)
|
