Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/38547
Title: Комплексное моделирование планарных магнетронных распылительных систем и процессов нанесения тонких пленок металлов
Authors: Мельников, С. Н.
Keywords: авторефераты диссертаций;магнетронная распылительная система;магнетронный разряд;математическое моделирование
Issue Date: 2019
Publisher: БГУИР
Citation: Мельников, С. Н. Комплексное моделирование планарных магнетронных распылительных систем и процессов нанесения тонких пленок металлов: автореф. дисс. ... кандидата технических наук : 05.27.06 / С. Н. Мельников ; науч. рук. С. П. Кундас. – Минск : БГУИР, 2019. – 27 с.
Abstract: Актуальной научной и практической задачей является комплексное компьютерное моделирование и проектирование, как отдельных высокоэффективных магнетронных распылительных систем, так и технологических процессов нанесения тонких пленок, и систем магнетронно- го распыления с различным взаимным расположением магнетронных распылительных систем относительно подложек, которые обеспечивают высокое качество наносимых пленок. Это позволит сократить время и стоимость разработок, а также минимизировать возможные ошибки при проектировании таких систем.
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/38547
Appears in Collections:05.27.06 Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
12_100229_1_138659.pdf743.39 kBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.