| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Тубольцев, В. В. | - |
| dc.contributor.author | Барахоев, А. Л. | - |
| dc.contributor.author | Тихон, О. И. | - |
| dc.date.accessioned | 2020-11-03T11:03:34Z | - |
| dc.date.available | 2020-11-03T11:03:34Z | - |
| dc.date.issued | 2020 | - |
| dc.identifier.citation | Тубольцев, В. В. Процесс удаления фоторезистивного слоя с применением поверхностного барьерного разряда / В. В. Тубольцев, А. Л. Барахоев, О. И. Тихон // Электронные системы и технологии : сборник тезисов докладов 56-ой научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов БГУИР, Минск, 18–20 мая 2020 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники. – Минск, 2020. – С. 401. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/40881 | - |
| dc.description.abstract | Процессы непрецизионной обработки кремниевых пластин с целью активации, удаления фоторезиста, очистки от загрязнений являются достаточно актуальными в настоящее время. Выполнение этих операций путём сухой плазменной обработки, в основном с применением вакуумной техники, связано с большой энергоёмкостью и крупными габаритами оборудования. Одним из альтернативных методов реализации процесса удаления фоторезистивных плёнок является обработка с использованием озоновоздушной смеси, формируемой в послесвечении разряда барьерного типа атмосферного давления [2-4]. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | материалы конференций | ru_RU |
| dc.subject | фоторезистивный слой | ru_RU |
| dc.subject | поверхностного барьерного разряд | ru_RU |
| dc.title | Процесс удаления фоторезистивного слоя с применением поверхностного барьерного разряда | ru_RU |
| dc.type | Статья | ru_RU |
| Appears in Collections: | Электронные системы и технологии : материалы 56-й конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2020)
|
