Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/42865
Title: Система контроля распределения скорости осаждения материала и плотности тока заряженных частиц при ионно-плазменном распылении
Other Titles: Пат. 10422 U Респ. Беларусь
Authors: Достанко, А. П.
Мельников, С. Н.
Голосов, Д. А.
Завадский, С. М.
Keywords: патенты;ионно-плазменное распыление;осаждение материалов;электродвигатели
Issue Date: 2014
Publisher: Национальный центр интеллектуальной собственности
Citation: Система контроля распределения скорости осаждения материала и плотности тока заряженных частиц при ионно-плазменном распылении : пат. 10422 U Респ. Беларусь : МПК (2006) G 01N 27/07, C 23C 14/34 / Достанко А. П., Мельников С. Н., Голосов Д. А., Завадский С. М. ; заявитель и патентообладатель УО Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники. – № u 20131093 ; заявл. 20.12.2013 ; опубл. 30.12.2014. – 3 с. : ил.
Abstract: Система контроля распределения скорости осаждения материала и плотности тока заряженных частиц при ионно-плазменном распылении, содержащая датчики скорости осаждения и плотности тока заряженных частиц, систему линейного перемещения с электродвигателем, генератор и блок измерения частоты, усилитель-формирователь сигнала датчика плотности тока, аналого-цифровой преобразователь и персональный компьютер, отличающаяся тем, что датчики скорости осаждения и плотности тока заряженных частиц размещены на системе линейного перемещения с электродвигателем.
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/42865
Appears in Collections:Полезные модели

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
10422.pdf208.8 kBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.