https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/42955
DC Field | Value | Language |
---|---|---|
dc.contributor.author | Бондаренко, В. П. | - |
dc.contributor.author | Клышко, А. А. | - |
dc.contributor.author | Чубенко, Е. Б. | - |
dc.date.accessioned | 2021-02-12T07:49:06Z | - |
dc.date.available | 2021-02-12T07:49:06Z | - |
dc.date.issued | 2015 | - |
dc.identifier.citation | Способ профилирования пластины из монокристаллического кремния : пат. 19684 Респ. Беларусь : МПК (2006) H 01L 21/00 / Бондаренко В. П., Клышко А. А., Чубенко Е. Б. ; заявитель и патентообладатель УО Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники. – № a 20121610 ; заявл. 30.06.2014 ; опубл. 30.12.2015. – 6 с. : ил. | ru_RU |
dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/42955 | - |
dc.description.abstract | Способ профилирования пластины из монокристаллического кремния, в котором на поверхности пластины формируют маску из нитрида кремния с подслоем оксида кремния, далее создают в указанной поверхности локальные области пористого кремния толщиной не менее 100 мкм путем ее анодной обработки в водном растворе электролита, содержащего изопропиловый спирт и 45%-ную фтористоводородную кислоту в количестве от 40 до 60 об. %, при плотности анодного тока от 35 до 120 мА/см 2 и температуре раствора от 1 до 5 °С, а затем создают углубления в поверхности пластины путем удаления из нее сформированных областей пористого кремния. | ru_RU |
dc.language.iso | ru | ru_RU |
dc.publisher | Национальный центр интеллектуальной собственности | ru_RU |
dc.subject | патенты | ru_RU |
dc.subject | монокристаллические структуры | ru_RU |
dc.subject | электронная техника | ru_RU |
dc.subject | полупроводниковые приборы | ru_RU |
dc.title | Способ профилирования пластины из монокристаллического кремния | ru_RU |
dc.title.alternative | Пат. 19684 Респ. Беларусь | ru_RU |
dc.type | Другое | ru_RU |
Appears in Collections: | Изобретения |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.