| Title: | Влияние термического отжига на оптические характеристики тонких пленок HfO2 |
| Other Titles: | Influence of thermal annealing on the optical characteristics of thin HfO2 films |
| Authors: | Зырянова, А. С. |
| Keywords: | материалы конференций;диоксид гафния;тонкие пленки;термический отжиг;hafnium dioxide;thin films;thermal annealing |
| Issue Date: | 2021 |
| Publisher: | БГУИР |
| Citation: | Зырянова, А. С. Влияние термического отжига на оптические характеристики тонких пленок HfO2 = Influence of thermal annealing on the optical characteristics of thin HfO2 films / А. С. Зырянова // Электронные системы и технологии : сборник материалов 57-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов БГУИР, Минск, 19-23 апреля 2021 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: Д. В. Лихаческий [и др.]. – Минск, 2021. – С. 181–183. |
| Abstract: | Проведено исследование влияния термического отжига при температуре 653– 693 К на воздухе на оптические характеристики тонких пленок диоксида гафния, полученных реактивным ионно-лучевым распылением мишени из гафния. Установлено, что отжиг пленки, полученной при нагретой подложке, привел к снижению пропускания в УФ области спектра, увеличению – в видимой и ИК области и уменьшению поглощения во всем диапазоне измерений. Тhe effect of thermal annealing at 653–693 K in air on the optical characteristics of thin films of hafnium dioxide obtained by reactive ion-beam sputtering of a hafnium target has been studied. It was found that annealing of the film obtained with a heated substrate led to a decrease in transmission in the UV region of the spectrum, an increase in the visible and IR regions, and a decrease in absorption in the entire measurement range. |
| URI: | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/43512 |
| Appears in Collections: | Электронные системы и технологии : материалы 57-й конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2021)
|
