| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Бордусов, С. В. | - |
| dc.contributor.author | Шинкевич, Ю. С. | - |
| dc.contributor.author | Мадвейко, С. И. | - |
| dc.contributor.author | Гусев, А. Н. | - |
| dc.date.accessioned | 2021-09-16T08:03:16Z | - |
| dc.date.available | 2021-09-16T08:03:16Z | - |
| dc.date.issued | 2008 | - |
| dc.identifier.citation | Исследование процесса удаления фоторезиста в плазме комбинированного разряда / С. В. Бордусов [и др.] // Технические средства защиты информации : материалы докладов и краткие сообщения VI Белорусско-российской научно-технической конференции, Минск, 21-22 мая, 2008 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: В. Ф. Голиков [и др.]. – Минск, 2008. – С. 77–78. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/45353 | - |
| dc.description.abstract | В процессах производства элементной базы средств защиты информации все чаще используется СВЧ разряд и его модификации. Одной из разновидностей сверхвысокочастотного разряда является комбинированный разряд, формируемый путем наложения на СВЧ разряд электромагнитного поля низкочастотного или высокочастотного диапазона. При таком способе появляется возможность дополнительного управления энерговкладом в плазменный объем и энергией заряженных плазменных частиц, что изменяет физико-химические процессы в объеме неравновесной плазмы и на границе раздела плазма — твердое тело. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | материалы конференций | ru_RU |
| dc.subject | СВЧ-разряды | ru_RU |
| dc.subject | комбинированные разряды | ru_RU |
| dc.title | Исследование процесса удаления фоторезиста в плазме комбинированного разряда | ru_RU |
| dc.type | Статья | ru_RU |
| Appears in Collections: | ТСЗИ 2008
|
