Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/46000
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorНгуен, Т. Д.-
dc.contributor.authorЗанько, А. И.-
dc.contributor.authorГолосов, Д. А.-
dc.contributor.authorЗавадский, С. М.-
dc.contributor.authorМельников, С. Н.-
dc.contributor.authorКолос, В. В.-
dc.contributor.authorТо, Т. К.-
dc.date.accessioned2021-11-24T11:25:02Z-
dc.date.available2021-11-24T11:25:02Z-
dc.date.issued2021-
dc.identifier.citationНгуен, Т. Д. Структурно-фазовые характеристики пленок оксида ванадия / Т. Д. Нгуен [и др.] // Вестник ГГТУ им. П. О. Сухого. – 2021. – № 1. – С. 33–41.ru_RU
dc.identifier.urihttps://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/46000-
dc.description.abstractПроведены исследования влияния параметров процесса нанесения и последующего отжига на структуру и фазовый состав пленок оксида ванадия (VOx ). Пленки VOx наносились методом импульсного реактивного магнетронного распыления V мишени в Ar/O2 смеси газов и подвергались отжигу в атмосфере O2 при давлении 10 5 Па. Температура отжига изменялась от 100 до 450 °С. Время отжига варьировалось от 10 до 120 мин. Установлено, что при отжиге начальные процессы кристаллизации наблюдаются при температурах 250–275 °С. При этом, в зависимости от концентрации кислорода в процессе распыления, формируются поликристаллические пленки кубической или смешанной моноклинной/кубической кристаллической решеткой. При увеличении температуры отжига происходит переход от промежуточного оксида V 4 O 9 к смешанной фазе VO 2 /VO x /V 2 O 5 и далее к высшему оксиду V 2 O 5 . При увеличении времени отжига формирование высшего оксида V 2 O 5 наблюдается при более низких температурах и его концентрация увеличивается.ru_RU
dc.language.isoruru_RU
dc.publisherГомельский государственный технический университет имени П. О. Сухогоru_RU
dc.subjectпубликации ученыхru_RU
dc.subjectоксид ванадияru_RU
dc.subjectтонкие пленкиru_RU
dc.subjectреактивное магнетронное распылениеru_RU
dc.subjectкристаллизационный отжигru_RU
dc.subjectvanadium oxideru_RU
dc.subjectthin filmsru_RU
dc.subjectreactive magnetron sputteringru_RU
dc.subjectcrystallization annealingru_RU
dc.titleСтруктурно-фазовые характеристики пленок оксида ванадияru_RU
dc.title.alternativeStructural and phase characteristics of vanadium oxide filmsru_RU
dc.typeСтатьяru_RU
local.description.annotationThe article The influence of the parameters of the deposition and subsequent annealing on the structure and phase composition of vanadium oxide (VO x ) films has been studied. VO x films were deposited by pulsed reactive magnetron sputtering of a V target in an Ar/O 2 gas mixture and annealed in an O 2 atmosphere at a pressure of 105 Pa. The temperature of the annealing varied from 100 to 450 °C. The time of the annealing varied from 10 to 120 min. It was found that during annealing, the initial crystallization processes are observed at temperatures of 250–275 °C. In this case, depending on the oxygen concentration during sputtering, polycrystalline films of a cubic or mixed monoclinic (cubic) crystal lattice are formed. As the temperature of the annealing rises, a transition occurs from the intermediate oxide V 4 O 9 to the mixed phase VO 2 /VO x /V 2 O 5 and then to the higher oxide V 2 O 5. With an increase in the annealing time, the formation of the higher oxide V 2 O 5 is observed at lower temperatures and its concentration increases.-
Appears in Collections:Публикации в изданиях Республики Беларусь

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Nguyen_Strukturno_Fazovyye.pdf1.2 MBAdobe PDFView/Open
Show simple item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.