DC Field | Value | Language |
dc.contributor.author | Жаворонок, И. А. | - |
dc.contributor.author | Тихон, О. И. | - |
dc.date.accessioned | 2022-06-07T07:54:40Z | - |
dc.date.available | 2022-06-07T07:54:40Z | - |
dc.date.issued | 2022 | - |
dc.identifier.citation | Жаворонок, И. А. Анализ технологии плазменной обработки полупроводниковых структур / И. А. Жаворонок, О. И. Тихон // Электронные системы и технологии [Электронный ресурс] : сборник материалов 58-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов БГУИР, Минск, 18-22 апреля 2022 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: Д. В. Лихаческий [и др.]. – Минск, 2022. – С. 403–405. – Режим доступа : https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/46926. | ru_RU |
dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/47293 | - |
dc.description.abstract | Проведен анализ разновидностей сухого травления, в частности такого вида сухого травления как ионно-плазменная обработка. Описано влияние на пластину и ее поверхность данного вида травления. An analysis of the varieties of dry etching, in particular, such a type of dry etching as ion-plasma processing, has been carried out. The effect of this type of etching on the wafer and its surface is described. | ru_RU |
dc.language.iso | ru | ru_RU |
dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
dc.subject | материалы конференций | ru_RU |
dc.subject | плазменное травление | ru_RU |
dc.subject | сверхвысокочастотные плазмы | ru_RU |
dc.subject | сверхвысокочастотные магнетроны | ru_RU |
dc.subject | plasma etching | ru_RU |
dc.subject | microwave plasma | ru_RU |
dc.subject | microwave magnetron | ru_RU |
dc.title | Анализ технологии плазменной обработки полупроводниковых структур | ru_RU |
dc.title.alternative | Analysis of the plasma processing technology of semiconductor structures | ru_RU |
dc.type | Статья | ru_RU |
Appears in Collections: | Электронные системы и технологии : материалы 58-й конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2022)
|