DC Field | Value | Language |
dc.contributor.author | Зырянова, А. С. | - |
dc.date.accessioned | 2022-06-07T11:35:05Z | - |
dc.date.available | 2022-06-07T11:35:05Z | - |
dc.date.issued | 2022 | - |
dc.identifier.citation | Зырянова, А. С. Исследование морфологии поверхности тонких пленок диоксида гафния / А. С. Зырянова // Электронные системы и технологии [Электронный ресурс] : сборник материалов 58-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов БГУИР, Минск, 18-22 апреля 2022 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: Д. В. Лихаческий [и др.]. – Минск, 2022. – С. 414–416. – Режим доступа : https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/46926. | ru_RU |
dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/47299 | - |
dc.description.abstract | Проведено исследование морфологии поверхности пленок диоксида гафния при их нанесении реактивным ионно-лучевым распылением металлической мишени с использованием метода атомно-силовой микроскопии. Установлено, что после отжига поверхность стала более гладкой и значительно уменьшилось значение средней шероховатости. A study was made of the surface morphology of hafnium dioxide films during their deposition by reactive ion-beam sputtering of a metal target using the method of atomic force microscopy. It was found that after annealing the surface became smoother and the value of the average roughness significantly decreased. | ru_RU |
dc.language.iso | ru | ru_RU |
dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
dc.subject | материалы конференций | ru_RU |
dc.subject | диоксид гафния | ru_RU |
dc.subject | тонкие пленки | ru_RU |
dc.subject | реактивное ионно-лучевое распыление | ru_RU |
dc.subject | атомно-силовая микроскопия | ru_RU |
dc.subject | термический отжиг | ru_RU |
dc.subject | hafnium dioxide | ru_RU |
dc.subject | thin films | ru_RU |
dc.subject | reactive ion-beam sputtering | ru_RU |
dc.subject | atomic force microscopy | ru_RU |
dc.subject | thermal annealing | ru_RU |
dc.title | Исследование морфологии поверхности тонких пленок диоксида гафния | ru_RU |
dc.title.alternative | Influence of thermal annealing on the optical characteristics of thin HfO2 films | ru_RU |
dc.type | Статья | ru_RU |
Appears in Collections: | Электронные системы и технологии : материалы 58-й конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2022)
|