DC Field | Value | Language |
dc.contributor.author | Пигаль, Р. В. | - |
dc.coverage.spatial | Минск | - |
dc.date.accessioned | 2022-10-04T06:50:48Z | - |
dc.date.available | 2022-10-04T06:50:48Z | - |
dc.date.issued | 2022 | - |
dc.identifier.citation | Пигаль, Р. В. Плазмохимическое нанесение тонких пленок в повышении надежности элементной базы электронных устройств защиты информации / Пигаль Р. В. // Технические средства защиты информации : тезисы докладов ХX Белорусско-российской научно-технической конференции, Минск, 7 июня 2022 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: Т. В. Борботько [и др.]. – Минск, 2022. – С. 79 – 80. | ru_RU |
dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/48350 | - |
dc.description.abstract | В работе с использованием источников обобщены сведения о методах
плазмохимического осаждения из газовой фазы тонких слоев диэлектриков на основе
нитрида, углерода и диоксида кремния, а также фосфор- и борсодержащих материалов.
Описаны процессы роста слоев и приведены данные об основных физико-химических
свойствах тонкослойных диэлектрических материалов. | ru_RU |
dc.language.iso | ru | ru_RU |
dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
dc.subject | материалы конференций | ru_RU |
dc.subject | защита информации | ru_RU |
dc.subject | тонкие пленки | ru_RU |
dc.title | Плазмохимическое нанесение тонких пленок в повышении надежности элементной базы электронных устройств защиты информации | ru_RU |
dc.type | Article | ru_RU |
Appears in Collections: | ТСЗИ 2022
|