Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/48350
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorПигаль, Р. В.-
dc.coverage.spatialМинск-
dc.date.accessioned2022-10-04T06:50:48Z-
dc.date.available2022-10-04T06:50:48Z-
dc.date.issued2022-
dc.identifier.citationПигаль, Р. В. Плазмохимическое нанесение тонких пленок в повышении надежности элементной базы электронных устройств защиты информации / Пигаль Р. В. // Технические средства защиты информации : тезисы докладов ХX Белорусско-российской научно-технической конференции, Минск, 7 июня 2022 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: Т. В. Борботько [и др.]. – Минск, 2022. – С. 79 – 80.ru_RU
dc.identifier.urihttps://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/48350-
dc.description.abstractВ работе с использованием источников обобщены сведения о методах плазмохимического осаждения из газовой фазы тонких слоев диэлектриков на основе нитрида, углерода и диоксида кремния, а также фосфор- и борсодержащих материалов. Описаны процессы роста слоев и приведены данные об основных физико-химических свойствах тонкослойных диэлектрических материалов.ru_RU
dc.language.isoruru_RU
dc.publisherБГУИРru_RU
dc.subjectматериалы конференцийru_RU
dc.subjectзащита информацииru_RU
dc.subjectтонкие пленкиru_RU
dc.titleПлазмохимическое нанесение тонких пленок в повышении надежности элементной базы электронных устройств защиты информацииru_RU
dc.typeArticleru_RU
Appears in Collections:ТСЗИ 2022

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Pigal_Plazmokhimicheskoye.pdf292.47 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.