| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Цедрик, Н. В. | - |
| dc.coverage.spatial | Минск | ru_RU |
| dc.date.accessioned | 2023-05-17T12:23:09Z | - |
| dc.date.available | 2023-05-17T12:23:09Z | - |
| dc.date.issued | 2023 | - |
| dc.identifier.citation | Цедрик, Н. В. Формирование тонкопленочных покрытий из боросиликатного стекла = Formation of thin-film coatings from borosilicate glass / Цедрик Н. В. // Электронные системы и технологии : сборник материалов 59-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов БГУИР, Минск, 17–21 апреля 2023 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: Д. В. Лихаческий [и др.]. – Минск, 2023. – С. 542–543. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/51430 | - |
| dc.description.abstract | Проведено исследование формирования тонкопленочных покрытий из боросиликатного стекла. Установлено, что основными факторами, влияющими на скорость нанесения пленок, являются ускоряющее напряжение на аноде, ток разряда, мощность разряда и ток компенсатора. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | материалы конференций | ru_RU |
| dc.subject | тонкопленочные покрытия | ru_RU |
| dc.subject | микроэлектроника | ru_RU |
| dc.subject | боросиликатные пленки | ru_RU |
| dc.title | Формирование тонкопленочных покрытий из боросиликатного стекла | ru_RU |
| dc.title.alternative | Formation of thin-film coatings from borosilicate glass | ru_RU |
| dc.type | Article | ru_RU |
| local.description.annotation | A study was made of the formation of thin-film coatings from borosilicate glass. It has been established that the main factors affecting the rate of film deposition are the accelerating voltage at the anode, the discharge current, the discharge power, and the compensator current. | ru_RU |
| Appears in Collections: | Электронные системы и технологии : материалы 59-й конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2023)
|
