| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Чан, Д. Н. Х. | - |
| dc.contributor.author | Доан, Х. Т. | - |
| dc.coverage.spatial | Минск | ru_RU |
| dc.date.accessioned | 2023-05-23T11:30:28Z | - |
| dc.date.available | 2023-05-23T11:30:28Z | - |
| dc.date.issued | 2023 | - |
| dc.identifier.citation | Чан, Д. Н. Х. Влияние расстояния мишень – подложка на равномерность толщины пленок тантала, наносимых цилиндрической магнетронной распылительной системой = Effect of the target – substrate distance on the thickness uniformity of tantalum films deposited by a cylindrical magnetron sputtering system / Чан Д. Н. Х., Доан Х. Т. // Электронные системы и технологии : сборник материалов 59-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов БГУИР, Минск, 17–21 апреля 2023 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: Д. В. Лихаческий [и др.]. – Минск, 2023. – С. 1057–1061. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/51528 | - |
| dc.description.abstract | Проведены исследования равномерности толщины тонких пленок тантала, наносимых методом магнетронного распыления при различном расстоянии мишень – подложка. На основе полученных результатов установлено, что при расстоянии мишень – подложка 146 мм возможно нанесение тонких пленок Ta с неравномерностью толщины менее 4 % на подложке диаметром 200 мм. При увеличении рабочего давления до 0.5 Па не наблюдается эффекта термализации распыленного потока, что позволяет эффективно наносить интерференционные покрытия цилиндрической магнетронной распылительной системой. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | материалы конференций | ru_RU |
| dc.subject | магнетроны | ru_RU |
| dc.subject | магнетронное распыление | ru_RU |
| dc.subject | реактивное распыление | ru_RU |
| dc.subject | тонкие пленки | ru_RU |
| dc.title | Влияние расстояния мишень – подложка на равномерность толщины пленок тантала, наносимых цилиндрической магнетронной распылительной системой | ru_RU |
| dc.title.alternative | Effect of the target – substrate distance on the thickness uniformity of tantalum films deposited by a cylindrical magnetron sputtering system | ru_RU |
| dc.type | Article | ru_RU |
| local.description.annotation | Studies of the thickness uniformity of thin tantalum films deposited by magnetron sputtering at different target-substrate distances have been carried out. On the basis of the results obtained, it was found that at a target-substrate distance of 146 mm, it is possible to deposit thin Ta films with a thickness uniformity of less than 4% on a substrate with a diameter of 200 mm. With an increase in the working pressure to 0.5 Pa, the effect of thermalization of the sputtered flow is not observed, which makes it possible to effectively apply interference coatings with a cylindrical magnetron sputtering system. | ru_RU |
| Appears in Collections: | Электронные системы и технологии : материалы 59-й конференции аспирантов, магистрантов и студентов (2023)
|
