Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/52034
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorДемидов, Е. Д.-
dc.coverage.spatialМинскru_RU
dc.date.accessioned2023-06-14T12:25:27Z-
dc.date.available2023-06-14T12:25:27Z-
dc.date.issued2023-
dc.identifier.citationДемидов, Е. Д. Один из подходов к обеспечению качества эпитаксиального технологического процесса наращивания тонких монокристаллических слоев на подложку / Е. Д. Демидов // Информационные системы и технологии : сборник тезисов докладов 59-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов, Минск, 17–23 апреля 2023 г. / Институт информационных технологий Белорусского государственного университета информатики и радиоэлектроники ; редкол.: М. Л. Маковский [и др.]. – Минск, 2023. – С. 9–13.ru_RU
dc.identifier.urihttps://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/52034-
dc.description.abstractВ работе проведена оценка параметров эпитаксиального технологического процесса наращивания монокристаллических кремниевых пластин для повышения его качества.ru_RU
dc.language.isoruru_RU
dc.publisherБГУИРru_RU
dc.subjectматериалы конференцийru_RU
dc.subjectмонокристаллические подложкиru_RU
dc.subjectэпитаксииru_RU
dc.subjectфизикаru_RU
dc.titleОдин из подходов к обеспечению качества эпитаксиального технологического процесса наращивания тонких монокристаллических слоев на подложкуru_RU
dc.typeArticleru_RU
Appears in Collections:Информационные системы и технологии : 59-я научная конференция аспирантов, магистрантов и студентов (2023)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Demidov_Odin.pdf480.85 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.