DC Field | Value | Language |
dc.contributor.author | Завадский, С. М. | - |
dc.date.accessioned | 2015-12-09T12:29:18Z | - |
dc.date.accessioned | 2017-07-20T07:51:36Z | - |
dc.date.available | 2015-12-09T12:29:18Z | - |
dc.date.available | 2017-07-20T07:51:36Z | - |
dc.date.issued | 2002 | - |
dc.identifier.citation | Завадский, С. М. Интегрированные ионно-плазменные процессы формирования тонкопленочных структур на рельефных поверхностях: автореф. дисс. ... кандидата технических наук : : автореф. дисс. ... кандидата технических наук : : автореф. дисс. ... кандидата технических наук : 05.27.06 / С. М. Завадский; науч. рук. А.П. Достанко. - Мн.: БГУИР, 2002. - 24 с. | ru_RU |
dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/5213 | - |
dc.description.abstract | Объектом исследования являются интегрированные ионно-плазменные процессы формирования тонкопленочных структур из разряда в скрещенных ЕхН полях. Предметом исследования являются химико - физические процессы, закономерности и механизмы взаимодействия ионов и конденсирующегося материала, протекающие на поверхности различных подложек в процессе конденсации при ионно - плазменном нанесении тонкопленочных слоев и в условиях перераспыления. | ru_RU |
dc.language.iso | ru | ru_RU |
dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
dc.subject | авторефераты диссертаций | ru_RU |
dc.subject | ион | ru_RU |
dc.subject | пленка | ru_RU |
dc.subject | магнетрон | ru_RU |
dc.subject | ионно - лучевой источник | ru_RU |
dc.subject | адгезия | ru_RU |
dc.subject | оксид | ru_RU |
dc.subject | рельеф | ru_RU |
dc.subject | нанесение | ru_RU |
dc.subject | распыление | ru_RU |
dc.subject | ion | ru_RU |
dc.subject | thin film | ru_RU |
dc.subject | magnetron | ru_RU |
dc.subject | ion beam source | ru_RU |
dc.subject | adhesion | ru_RU |
dc.subject | oxide | ru_RU |
dc.subject | relief | ru_RU |
dc.subject | deposition | ru_RU |
dc.subject | sputtering | ru_RU |
dc.title | Интегрированные ионно-плазменные процессы формирования тонкопленочных структур на рельефных поверхностях | ru_RU |
dc.title.alternative | The integrated ion plasma processes of thin film structures formation on complicated - relief surfaces | ru_RU |
dc.type | Abstract of the thesis | ru_RU |
local.description.annotation | Object of investigation are development integrated ion plasma processes of thin film structures formation and systems for discharges with crossed ExH fields.Subject of investigation are physical - chemical processes regularity and mechanisms ions and condensing materials on the surface substrate during thin films deposition at the resputtering. | - |
Appears in Collections: | 05.27.06 Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники
|