| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Ковальчук, Н. С. | - |
| dc.date.accessioned | 2015-12-14T14:09:42Z | |
| dc.date.accessioned | 2017-07-20T08:02:27Z | - |
| dc.date.available | 2015-12-14T14:09:42Z | |
| dc.date.available | 2017-07-20T08:02:27Z | - |
| dc.date.issued | 2012 | - |
| dc.identifier.citation | Ковальчук, Н. С. Многослойные структуры на основе нитрида кремния для мембранных микроэлектромеханнческих систем и полупроводниковых приборов: автореф. дисс. ... кандидата технических наук : 05.27.01 / Н. С. Ковальчук; науч. рук. Л. П. Ануфриев. - Мн.: БГУИР, 2012. - 21 с. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/5271 | - |
| dc.description.abstract | Цель работы: исследование и разработка конструкций, технологических маршрутов и выбор режимов изготовления сбалансированных по остаточным напряжениям многослойных структур полупроводниковых приборов и мембран микроэлектромеханических устройств. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | авторефераты диссертаций | ru_RU |
| dc.subject | многослойные структуры | ru_RU |
| dc.subject | мембрана | ru_RU |
| dc.subject | полупроводниковые приборы | ru_RU |
| dc.subject | нитрид кремния | ru_RU |
| dc.subject | остаточные напряжения | ru_RU |
| dc.subject | никель | ru_RU |
| dc.subject | платина | ru_RU |
| dc.subject | анодированный алюминий | ru_RU |
| dc.subject | ионно-лучевая обработка | ru_RU |
| dc.subject | multilayered structures | ru_RU |
| dc.subject | membrane | ru_RU |
| dc.subject | semi-conductor devices | ru_RU |
| dc.subject | silicon nitride | ru_RU |
| dc.subject | residual tension | ru_RU |
| dc.subject | nickel | ru_RU |
| dc.subject | platinum | ru_RU |
| dc.subject | anodized aluminum | ru_RU |
| dc.subject | ion-beam processing | ru_RU |
| dc.title | Многослойные структуры на основе нитрида кремния для мембранных микроэлектромеханнческих систем и полупроводниковых приборов | ru_RU |
| dc.title.alternative | Multilayer structures based on silicon nitride for membranes of microelectromechanical systems and semicondnctor devices | ru_RU |
| dc.type | Abstract of the thesis | ru_RU |
| local.description.annotation | The aim of the wort, research and development of structures, process routes and choice of modes of production balanced by the residual stress of multilayer structures of semiconductor devices and MEMS membrane devices. | - |
| Appears in Collections: | 05.27.01 Твердотельная электроника, радиоэлектронные компоненты, микро и наноэлектроника, приборы на квантовых эффектах
|
