| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Коробко, А. О. | - |
| dc.date.accessioned | 2015-12-14T15:49:09Z | |
| dc.date.accessioned | 2017-07-20T08:02:27Z | - |
| dc.date.available | 2015-12-14T15:49:09Z | |
| dc.date.available | 2017-07-20T08:02:27Z | - |
| dc.date.issued | 2009 | - |
| dc.identifier.citation | Коробко, А. О. Формирование функциональных слоев соединений кремния с никелем, кобальтом, железом и палладием ионной имплантацией и ионно-плазменным нанесением: автореф. дисс. ... кандидата технических наук : 05.27.01 / А. О. Коробко; науч. рук. А. П. Достанко. - Мн.: БГУИР, 2009. - 19 с. | ru_RU |
| dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/5276 | - |
| dc.description.abstract | Цель работы заключается в создании функциональных микро- и наноразмерных слоев с заданными свойствами в твердотельных структурах путем модификации монокристаллического кремния металлами Ni, Со, Fe и Pd с помощью методов ионной имплантации и ионно-плазменного нанесения для интеграции изделий микроэлектроники и спинтроники. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
| dc.subject | авторефераты диссертаций | ru_RU |
| dc.subject | кремний | ru_RU |
| dc.subject | ионы Ni, Со, Fe | ru_RU |
| dc.subject | силицид никеля | ru_RU |
| dc.subject | парамагнетизм | ru_RU |
| dc.subject | термический отжиг | ru_RU |
| dc.subject | модель Миедема | ru_RU |
| dc.subject | теплота образования | ru_RU |
| dc.subject | термостабильность | ru_RU |
| dc.subject | silicon, Ni, Co, Fe | ru_RU |
| dc.subject | nickel silicide | ru_RU |
| dc.subject | paramagnetism | ru_RU |
| dc.subject | thermal annealing | ru_RU |
| dc.subject | Miedema's model | ru_RU |
| dc.subject | heat of formation | ru_RU |
| dc.subject | thermal stability | ru_RU |
| dc.title | Формирование функциональных слоев соединений кремния с никелем, кобальтом, железом и палладием ионной имплантацией и ионно-плазменным нанесением | ru_RU |
| dc.title.alternative | Formation of functional layers of silicon with nickel, cobalt, iron and palladium compounds by means of ion implantation and ion-plasma deposition | ru_RU |
| dc.type | Abstract of the thesis | ru_RU |
| local.description.annotation | The aim consists in creation of functional micro- and nanosized layers with given properties in solid state structures by modifying the single crystal silicon by Ni, Co, Fe and Pd metals by means of ion implantation and ion-plasma deposition for integration of microelectronics and spintronics wares. | - |
| Appears in Collections: | 05.27.01 Твердотельная электроника, радиоэлектронные компоненты, микро и наноэлектроника, приборы на квантовых эффектах
|
