Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/53685
Title: Формирование отверстий в полупроводниковых материалах лазерной микрообработкой
Authors: Ланин, В. Л.
Петухов, И. Б.
Ретюхин, Г. Е.
Keywords: публикации ученых;лазерные излучения;полупроводниковые подложки;микрообработка
Issue Date: 2022
Publisher: Институт прикладной физики
Citation: Ланин, В. Л. Формирование отверстий в полупроводниковых материалах лазерной микрообработкой / В. Л. Ланин, И. Б. Петухов, Г. Е. Ретюхин // Электронная обработка материалов. – 2022. – Т. 58, №6. – С. 73–79.
Abstract: Исследован процесс лазерного формирования микроотверстий в полупроводниковых подложках на установке лазерной обработки ЭМ-4452-1 с частотой следования импульсов пикосекундного лазера от 10 до 300 кГц при энергии излучения до 10 мкДж. Сочетание высокоскоростных перемещений лазерного луча системой гальваносканера и точного позиционирования обрабатываемого материала повышает эффективность лазерной микрообработки и расширяет функциональные возможности оборудования.
Alternative abstract: The process of laser formation of microholes in semiconductor substrates using an EM-4452-1 laser processing unit with a pulse repetition rate of a picosecond laser from 10 to 300 kHz at a radiation energy of up to 10 µJ was investigated. The combination of high-speed movements of the laser beam by the galvanoscanner system and precise positioning of the processed material increases the efficiency of laser microprocessing and expands the functionality of the equipment.
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/53685
DOI: https://doi.org/10.52577/eom.2022.58.6.73
Appears in Collections:Публикации в зарубежных изданиях

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Lanin_Formirovanie.pdf377.43 kBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.