DC Field | Value | Language |
dc.contributor.author | Прудник, А. М. | - |
dc.date.accessioned | 2016-01-13T06:54:07Z | |
dc.date.accessioned | 2017-07-20T08:44:08Z | - |
dc.date.available | 2016-01-13T06:54:07Z | |
dc.date.available | 2017-07-20T08:44:08Z | - |
dc.date.issued | 2002 | - |
dc.identifier.citation | Прудник А. М. Формирование субмикронного рельефа тонких пленок обратной литографией с использованием металлических и оксидных масок: автореф. дисс. ... кандидата технических наук : 05.27.01 / А. М. Прудник; науч. рук. Л. М. Лыньков. - Мн.: БГУИР, 2002. - 21 с. | ru_RU |
dc.identifier.uri | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/5424 | - |
dc.description.abstract | Целью работы является разработка конструкторско-технологических методов и средств обратной литографии с использованием тонких маскирующих пленок металлов и оксидов на их основе. | ru_RU |
dc.language.iso | ru | ru_RU |
dc.publisher | БГУИР | ru_RU |
dc.subject | авторефераты диссертаций | ru_RU |
dc.subject | обратная литография | ru_RU |
dc.subject | обратные маски | ru_RU |
dc.subject | субмикронные размеры | ru_RU |
dc.subject | lift-off lithography | ru_RU |
dc.subject | lift-off masks | ru_RU |
dc.subject | submicron dimensions | ru_RU |
dc.title | Формирование субмикронного рельефа тонких пленок обратной литографией с использованием металлических и оксидных масок | ru_RU |
dc.title.alternative | Producing of thin film submicron patterns by lift-off lithography using metal and oxide masks | ru_RU |
dc.type | Abstract of the thesis | ru_RU |
local.description.annotation | The aim of the work is to research influence of low-temperature and high-temperature treatment conditions on thin films of different metals and their oxides on local modification, electrochemical and thermal oxidation for using them as masks for lift-off lithography to produce patterns of submicron dimensions | - |
Appears in Collections: | 05.27.01 Твердотельная электроника, радиоэлектронные компоненты, микро и наноэлектроника, приборы на квантовых эффектах
|