Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/58175
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorПилипенко, В. А.-
dc.contributor.authorКовальчук, Н. С.-
dc.contributor.authorСоловьёв, Я. А.-
dc.contributor.authorШестовский, Д. В.-
dc.contributor.authorЖигулин, Д. В.-
dc.coverage.spatialМинскen_US
dc.date.accessioned2024-11-05T08:33:11Z-
dc.date.available2024-11-05T08:33:11Z-
dc.date.issued2024-
dc.identifier.citationВлияние быстрой термообработки при формировании контактов алюминий-поликремний на электрические параметры КМОП микросхем = The Influence of Rapid Heat Treatment During the Formation of Aluminum-Polysilicon Contacts on the Electrical Parameters of CMOS Microcircuits / В. А. Пилипенко, Н. С. Ковальчук, Я. А. Соловьёв [и др.] // Доклады БГУИР. – 2024. – Т. 22, № 5. – С. 5–11.en_US
dc.identifier.urihttps://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/58175-
dc.description.abstractРассмотрено влияние быстрой термической обработки (450 °С, 7 с) на электрические параметры КМОП интегральных микросхем при формировании омического контакта между алюминиевой металлизацией и поликремнием. В качестве анализируемых параметров n- и p-канальных транзисторов были выбраны следующие вольт-амперные характеристики зависимости тока стока от напряжения: на затворе при диодном включении; на стоке при различных напряжениях на затворе; на стоке в режиме пробоя ка нала без подачи потенциала на затвор. Сравнение этих параметров проводилось относительно микросхем, изготовленных с применением стандартной технологии (450 °С, 20 мин) для формирования данных контактов. Анализ результатов показал, что применение быстрой термической обработки для формирования омического контакта алюминий-поликремний позволяет значительно улучшить вышеуказанные характеристики n-МОП- и р-МОП-транзисторов. Из вольт-амперных характеристик n- и р-канальных транзисторов следует, что в области напряжений на затворе более 0,65 В ток стока после длительной термообработки выше, чем после быстрой. Анализ вольт-амперной характеристики тока стока от напряжения на стоке показал, что ток стока при использовании длительной термообработки значительно выше, чем после быстрой термообработки. При этом для длительной термообработки имеют место уменьшение напряжения пробоя канала только для n-канальных транзисторов и увеличение тока стока в области более 5 В как для n-, так и для р-канальных транзисторов. Такие улучшения протекают за счет исключения образования конгломератов поликремния в алюминиевом контакте, значительного уменьшения эпитаксиальной рекристаллизации кремния, легированного алюминием, на поверхности кремния, а также снижения микрорельефа границы раздела данного контакта и уменьшения роста размера контактных окон за счет бокового взаимодействия алюминия с поликремнием.en_US
dc.language.isoruen_US
dc.publisherБГУИРen_US
dc.subjectдоклады БГУИРen_US
dc.subjectтермическая обработкаen_US
dc.subjectомические контактыen_US
dc.subjectтемпературная нагрузкаen_US
dc.titleВлияние быстрой термообработки при формировании контактов алюминий-поликремний на электрические параметры КМОП микросхемen_US
dc.title.alternativeThe Influence of Rapid Heat Treatment During the Formation of Aluminum-Polysilicon Contacts on the Electrical Parameters of CMOS Microcircuitsen_US
dc.typeArticleen_US
dc.identifier.DOIhttp://dx.doi.org/10.35596/1729-7648-2024-22-5-5-11-
local.description.annotationThe influence of rapid heat treatment (450 °C, 7 s) on the electrical parameters of CMOS integrated circuits during the formation of ohmic contact between aluminum metallization and polysilicon is considered. The following volt-ampere characteristics of the dependence of drain current on voltage were chosen as the analyzed parameters of n- and p-channel transistors: at the gate when diode-connected; on the drain at different gate voltages; on the drain in the channel breakdown mode without applying potential to the gate. A comparison of these parameters was carried out with respect to microcircuits manufactured using standard technology (450 °C, 20 min) to form these contacts. Analysis of the results showed that the use of rapid heat treatment to form an ohmic aluminum-polysilicon contact can significantly improve the above characteristics of n-MOS and p-MOS transistors. From the current-voltage characteristics of n- and p-channel transistors it follows that in the region of gate voltages greater than 0.65 V, the drain current after long-term heat treatment is higher than after quick heat treatment. Analysis of the current-voltage characteristics of the drain current versus the drain voltage showed that the drain current when using long-term heat treatment is significantly higher than after rapid heat treatment. In this case, for long-term heat treatment, there is a decrease in the channel breakdown voltage only for n-channel transistors and an increase in the drain current in the region of more than 5 V for both n- and p-channel transistors. Such improvements occur by eliminating the formation of polysilicon conglomerates in the aluminum contact, significantly reducing the epitaxial recrystallization of silicon doped with aluminum on the silicon surface, as well as reducing the microrelief of the interface of this contact and reducing the growth in the size of contact windows due to the lateral interaction of aluminum with polysilicon.en_US
Appears in Collections:Том 22, № 5

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Pilipenko_Vliyanie.pdf466.52 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.