Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/58808
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorВорсин, Н. Н.-
dc.contributor.authorГладыщук, А. А.-
dc.contributor.authorКушнер, Т. Л.-
dc.contributor.authorТарасюк, Н. П.-
dc.contributor.authorЧугунов, С. В.-
dc.coverage.spatialМинскen_US
dc.date.accessioned2025-01-17T07:15:44Z-
dc.date.available2025-01-17T07:15:44Z-
dc.date.issued2024-
dc.identifier.citationМоделирование мощного полевого транзистора на основе AlGaN = Modeling AlGaN heterojunction field-effect transistor / Н. Н. Ворсин, А. А. Гладыщук, Т. Л. Кушнер [и др.] // Компьютерное проектирование в электронике = Electronic Design Automation : cборник трудов Международной научно-практической конференции, Минск, 28 ноября 2024 г. / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники ; редкол.: В. Р. Стемпицкий [и др.]. – Минск, 2024. – С. 50–53.en_US
dc.identifier.urihttps://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/58808-
dc.description.abstractТройное соединение AlGaN с шириной запрещенной зоны от 3,4 до 6,2 эВ является перспективным материалом для построения различных электронных приборов: диодов, транзисторов, лазеров, СВЧ микросхем. Замена кремния на GaN позволяет повысить рабочую температуру, граничную частоту, уменьшить в несколько раз потери переключения и проводимости в силовых приборах. Компьютерное моделирование физических процессов является необходимым элементом освоения новых электронных устройств. В настоящей работе представлены результаты моделирования мощного полевого транзистора на основе полупроводникового соединения AlGaN.en_US
dc.language.isoruen_US
dc.publisherБГУИРen_US
dc.subjectматериалы конференцийen_US
dc.subjectгетеропереходные транзисторыen_US
dc.subjectнитрид галлияen_US
dc.subjectнитрид алюминияen_US
dc.subjectдиффузионно-дрейфовые моделиen_US
dc.subjectградиент электронной плотностиen_US
dc.subjectполяризацияen_US
dc.subjectвольтамперная характеристикаen_US
dc.titleМоделирование мощного полевого транзистора на основе AlGaNen_US
dc.title.alternativeModeling AlGaN heterojunction field-effect transistoren_US
dc.typeArticleen_US
local.description.annotationAlGaN ternary alloys with a band gap of 3.4 to 6.2 eV are promising materials for the construction of various electronic devices: diodes, transistors, lasers, microwave circuits. Replacing silicon with GaN allows several times to increase the operating temperature, the cutoff frequency, and to reduce several times the switching and conduction losses in power devices. A necessary element in the development of new electronic devices is computer modeling of physical processes in them. In this work, a model of a heterojunction fieldeffect transistor (FET) based on AlxGax-1N was developed using the COMSOL Multiphysics software, including its CVC and other parameters.en_US
Appears in Collections:Компьютерное проектирование в электронике (2024)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Vorsin_Modelirovanie.pdf238.46 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.