Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/59151
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorКушнер, Л. К.-
dc.contributor.authorКузьмар, И. И.-
dc.contributor.authorГульпа, Д. Ю.-
dc.coverage.spatialМинскen_US
dc.date.accessioned2025-02-19T07:00:37Z-
dc.date.available2025-02-19T07:00:37Z-
dc.date.issued2024-
dc.identifier.citationКушнер, Л. К. Осаждение меди в условиях нестационарного электролиза и при воздействии ультразвука = Copper deposition under conditions of non-stat1onary electrolysis and under influence of ultrasound / Л. К. Кушнер, И. И. Кузьмар, Д. Ю. Гульпа // Новые материалы и технологии: порошковая металлургия, композиционные материалы, защитные покрытия, сварка = New materials and technologies: powder metallurgy, composite materials, protective coatings, welding : материалы 16-й Международной научно-технической конференции, Минск, 22–24 мая 2024 г. / Нацилнальная академия наук Беларуси, Институт порошковой металлургии им. академика О. В. Романа ; редкол.: А. Ф. Ильюшенко (гл. ред.) [и др.]. – Минск, 2024. – 386–389.en_US
dc.identifier.urihttps://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/59151-
dc.description.abstractПредставлены результаты исследования механизма и кинетических закономерностей процесса электрохимического меднения в сульфатном электролите с выравнивающими добавками при воздействии интенсифицирующих факторов для металлизации печатных плат и переходных отверстий в кремнии.en_US
dc.language.isoruen_US
dc.publisherБеларуская навукаen_US
dc.subjectпубликации ученыхen_US
dc.subjectэлектрохимические покрытияen_US
dc.subjectэлектролизen_US
dc.subjectультразвуковые колебанияen_US
dc.titleОсаждение меди в условиях нестационарного электролиза и при воздействии ультразвукаen_US
dc.title.alternativeCopper deposition under conditions of non-stat1onary electrolysis and under influence of ultrasounden_US
dc.typeArticleen_US
local.description.annotationThe results of a study of the mechanism and kinetic laws of the process of electrochemical copper plating in a sulfate electrolyte with leveling additives under the influence of intensifying factors for the metallization of printed circuit boards and vias in silicon are presented.en_US
Appears in Collections:Публикации в изданиях Республики Беларусь

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Kushner_Osazhdenie.pdf619.64 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.