Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/8277
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorКривошеева, А. В.-
dc.contributor.authorШапошников, В. Л.-
dc.contributor.authorБорисенко, В. Е.-
dc.date.accessioned2016-08-16T07:27:56Z-
dc.date.accessioned2017-07-13T06:33:45Z-
dc.date.available2016-08-16T07:27:56Z-
dc.date.available2017-07-13T06:33:45Z-
dc.date.issued2016-
dc.identifier.citationКривошеева, А. В. Модификация ширины запрещенной зоны MoS2 при замещении атомов серы атомами теллура / А. В. Кривошеева, В. Л. Шапошников, В. Е. Борисенко // Доклады БГУИР. - 2016. - № 4 (98). - С. 98 - 101.ru_RU
dc.identifier.urihttps://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/8277-
dc.description.abstractУстановлено, что ширина запрещенной зоны слоя MoS2 (дисульфида молибдена) мономолекулярной толщины при встраивании атомов серы на место атомов теллура уменьшается с 1,84 эВ и достигает 1,17 эВ в случае MoTe2. Как MoTe2, так и MoS2 в объемном состоянии являются непрямозонными полупроводниками, в то время как их монослои, а также соединения MoS2-xTex при x < 0,5 либо x > 1,5 становятся прямозонными. В случае, когда концентрация атомов теллура меньше концентрации атомов серы, ширина запрещенной зоны тройного соединения линейно уменьшается с повышением концентрации атомов теллура.ru_RU
dc.language.isoruru_RU
dc.publisherБГУИРru_RU
dc.subjectдоклады БГУИРru_RU
dc.subjectдисульфид молибденаru_RU
dc.subjectмономолекулярный слойru_RU
dc.subjectэлектронная структураru_RU
dc.subjectзапрещенная зонаru_RU
dc.subjectmolybdenum disulfideru_RU
dc.subjectmonolayerru_RU
dc.subjectelectronic structureru_RU
dc.subjectband gapru_RU
dc.titleМодификация ширины запрещенной зоны MoS2 при замещении атомов серы атомами теллураru_RU
dc.title.alternativeMoS2 band gap modification upon replacement of sulfur atoms by tellurium onesru_RU
dc.typeArticleru_RU
local.description.annotationThe electron energy band gap in one monomolecular layer of molybdenum dichalcogenide MoS2 is reduced upon substitution of S atoms by Te ones from 1,84 to 1,17 eV in the case of MoTe2. Both MoTe2 and MoS2 compounds in a bulk phase are indirect-gap semiconductors while one monomolecular layer of MoS2-xTex compounds are transforming into direct-gap compounds for x < 0,5 or x > 1,5. The band gap dependence has a linear behavior in the case when the concentration of Te atoms is smaller than the concentration of S atoms.-
Appears in Collections:№4 (98)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Krivosheyeva_Modifikatsiya.PDF722.58 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.