https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/11115| Title: | Автофокусировка в установках автоматического контроля дефектов топологического рисунка фотошаблонов и полупроводниковых пластин |
| Other Titles: | Autofocus in the systems of automatic mask and wafer pattern inspection |
| Authors: | Аваков, С. М. Безлюдов, А. В. Гайков, Н. И. Ланин, В. Л. Огер, В. П. Титко, Д. С. Трапашко, Г. А. |
| Keywords: | публикации ученых;фокусировка;контроль;focus;inspection |
| Issue Date: | 2015 |
| Publisher: | Электроника |
| Citation: | Автофокусировка в установках автоматического контроля дефектов топологического рисунка фотошаблонов и полупроводниковых пластин / С. М. Аваков и др. // Производство электроники. – 2015. – №5. – С. 125 – 128. |
| Abstract: | Для повышения точности автоматизированного контроля дефектов топологического рисунка фотошаблонов и полупроводниковых пластин предложена система автофокусировки, обеспечивающая удержание поверхности объекта в зоне резкости объектива при последовательном сканировании топологии. |
| Alternative abstract: | In order to increase accuracy of automatic mask and wafer pattern inspection an autofocus system is offered which ensures keeping the plane in objective focus zone during the sequential scanning of the pattern. |
| URI: | https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/11115 |
| Appears in Collections: | Публикации в зарубежных изданиях |
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| PE_04_239.pdf | 606.24 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.