Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/11159
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorДостанко, А. П.-
dc.contributor.authorГолосов, Д. А.-
dc.contributor.authorЗавадский, С. М.-
dc.contributor.authorМельников, С. Н.-
dc.contributor.authorОкоджи, Д. Э.-
dc.contributor.authorКотинго, Д. Д.-
dc.contributor.authorРубан, Г. М.-
dc.date.accessioned2017-01-04T08:31:05Z-
dc.date.accessioned2017-07-27T11:59:30Z-
dc.date.available2017-01-04T08:31:05Z-
dc.date.available2017-07-27T11:59:30Z-
dc.date.issued2016-
dc.identifier.citationДостанко, А. П. Формирование пленок нитрида титана методом реактивного магнетронного распыления при пониженном давлении / А. П. Достанко и другие // Проблемы физики, математики и техники. - 2016. - Т. 27, № 2. - С. 12-17.ru_RU
dc.identifier.urihttps://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/11159-
dc.description.abstractПроведены исследования процесса реактивного магнетронного распыления титана в среде Ar/N2 рабочих газов при пониженном давлении. Установлено, что при высоковакуумном режиме работы магнетронной распылительной системы и высоких скоростях откачки в режиме стабилизации мощности разряда магнетрона напряжение разряда практически однозначно зависит от содержания реактивного газа в камере, т. е. отсутствует гистерезис характеристик, свойственный процессам реактивного распыления. При этом возможно воспроизводимое нанесение слоев нитрида титана c удельным сопротивлением менее 70 мкОм×см и твердостью свыше 28 ГПа.ru_RU
dc.language.isoruru_RU
dc.publisherГомельский государственный университет им. Ф. Скориныru_RU
dc.subjectпубликации ученыхru_RU
dc.subjectреактивное магнетронное распылениеru_RU
dc.subjectнитрид титанаru_RU
dc.subjectмикротвердостьru_RU
dc.subjectкоэффициент тренияru_RU
dc.subjectобъемный износru_RU
dc.subjectreactive magnetron sputteringru_RU
dc.subjecttitanium nitrideru_RU
dc.titleФормирование пленок нитрида титана методом реактивного магнетронного распыления при пониженном давленииru_RU
dc.title.alternativeFormation of titanium nitride films by reactive magnetron sputtering under low pressureru_RU
dc.typeArticleru_RU
Appears in Collections:Публикации в изданиях Республики Беларусь

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
12092.PDF904.82 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.