Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/11159
Title: Формирование пленок нитрида титана методом реактивного магнетронного распыления при пониженном давлении
Other Titles: Formation of titanium nitride films by reactive magnetron sputtering under low pressure
Authors: Достанко, А. П.
Голосов, Д. А.
Завадский, С. М.
Мельников, С. Н.
Окоджи, Д. Э.
Котинго, Д. Д.
Рубан, Г. М.
Keywords: публикации ученых;реактивное магнетронное распыление;нитрид титана;микротвердость;коэффициент трения;объемный износ;reactive magnetron sputtering;titanium nitride
Issue Date: 2016
Publisher: Гомельский государственный университет им. Ф. Скорины
Citation: Достанко, А. П. Формирование пленок нитрида титана методом реактивного магнетронного распыления при пониженном давлении / А. П. Достанко и другие // Проблемы физики, математики и техники. - 2016. - Т. 27, № 2. - С. 12-17.
Abstract: Проведены исследования процесса реактивного магнетронного распыления титана в среде Ar/N2 рабочих газов при пониженном давлении. Установлено, что при высоковакуумном режиме работы магнетронной распылительной системы и высоких скоростях откачки в режиме стабилизации мощности разряда магнетрона напряжение разряда практически однозначно зависит от содержания реактивного газа в камере, т. е. отсутствует гистерезис характеристик, свойственный процессам реактивного распыления. При этом возможно воспроизводимое нанесение слоев нитрида титана c удельным сопротивлением менее 70 мкОм×см и твердостью свыше 28 ГПа.
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/11159
Appears in Collections:Публикации в изданиях Республики Беларусь

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
12092.PDF904.82 kBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.