Skip navigation
Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/52034
Title: Один из подходов к обеспечению качества эпитаксиального технологического процесса наращивания тонких монокристаллических слоев на подложку
Authors: Демидов, Е. Д.
Keywords: материалы конференций;монокристаллические подложки;эпитаксии;физика
Issue Date: 2023
Publisher: БГУИР
Citation: Демидов, Е. Д. Один из подходов к обеспечению качества эпитаксиального технологического процесса наращивания тонких монокристаллических слоев на подложку / Е. Д. Демидов // Информационные системы и технологии : сборник тезисов докладов 59-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов, Минск, 17–23 апреля 2023 г. / Институт информационных технологий Белорусского государственного университета информатики и радиоэлектроники ; редкол.: М. Л. Маковский [и др.]. – Минск, 2023. – С. 9–13.
Abstract: В работе проведена оценка параметров эпитаксиального технологического процесса наращивания монокристаллических кремниевых пластин для повышения его качества.
URI: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/52034
Appears in Collections:Информационные системы и технологии : 59-я научная конференция аспирантов, магистрантов и студентов (2023)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Demidov_Odin.pdf480.85 kBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.