Разработка технологии прецизионных трехмерных структур на основе градиентной литографии сверхтолстых эпоксидных фоторезистов и электрохимического осаждения для технологий массового производства микроэлементов : отчет о НИР (заключ.)

Тимошков, Ю. В.; Курмашев, В. И.; Сакова, А. А.; Тимошков, В. Ю.

Please use this identifier to cite or link to this item: https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/6346

Title:	Разработка технологии прецизионных трехмерных структур на основе градиентной литографии сверхтолстых эпоксидных фоторезистов и электрохимического осаждения для технологий массового производства микроэлементов : отчет о НИР (заключ.)
Authors:	Тимошков, Ю. В. Курмашев, В. И. Сакова, А. А. Тимошков, В. Ю.
Keywords:	отчеты о НИР;градиентная литография;электрохимическое осаждение;эпоксидный фотогрезист
Issue Date:	2015
Publisher:	БГУИР
Citation:	Разработка технологии прецизионных трехмерных структур на основе градиентной литографии сверхтолстых эпоксидных фоторезистов и электрохимического осаждения для технологий массового производства микроэлементов : отчет о НИР (заключ.) / БГУИР ; научный руководитель Ю. В. Тимошков ; отв. исполнитель В. И. Курмашев . – Минск, 2015. – 69 с. - № ГР 20143497
Series/Report no.:	ГБЦ 14-3019;
Abstract:	Описаны основные подходы к формированию 3D микроструктур в современной микроэлектронике. Разработана технология формирования прецизионных реальных 3d-структур на основе сверхтолстых эпоксидных фоторезистов и гальванического осаждения функциональных материалов для использования в технологиях микропечатания, тиражирования вал-на-вал, гальванического микроформования.
Gov't Doc #:	№ ГР 20143497
URI:	https://libeldoc.bsuir.by/handle/123456789/6346
Appears in Collections:	Отчеты о НИР 2015

Files in This Item:

File	Description	Size	Format
№ ГР 20143497 (14-3019)_Рук_НИР_Тимошков.pdf Restricted Access		6.6 MB	Adobe PDF	View/Open Request a copy

Show full item record Google Scholar